(RO)反滲透 + (EDI)電去離子工藝
產(chǎn)水符合電子工業(yè)用水 (水質(zhì)符合美國ASTM標準,電子部超純水水質(zhì)標準(18MΩ*cm,15MΩ*cm,12MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)。
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,線(xiàn)寬越窄,對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區分不同水質(zhì)。
電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下幾種:
(1)采用反滲透水處理設備與離子交換設備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。
(2)采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式,這是一種制取超純水的最新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟,發(fā)展潛力巨大的超純水制備工藝,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。
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