高純水是將普通的市政用水處理成對不同離子的含量和顆粒度都有很高要求的超純水。在半導體制作過(guò)程中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸，80%以上的工序需要進(jìn)行化學(xué)處理，而化學(xué)處理又與超純水有關(guān)。如果水中的雜質(zhì)進(jìn)入硅片，就會(huì )導致半導體器件性能，從而影響產(chǎn)品質(zhì)量。因此，制備和使用高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規模集成電路的重要前提技術(shù)。
眾所周知，超純水管道系統在使用過(guò)程中，由于離子的聚集和雜質(zhì)的粘著(zhù)會(huì )對管道造成污染，從而影響硅片的質(zhì)量。因此，半導體企業(yè)需要定期對超純水管道進(jìn)行清洗和消毒，以使水質(zhì)達到工藝使用要求。但由于半導體企業(yè)生產(chǎn)任務(wù)緊以及專(zhuān)業(yè)方向的差異，企業(yè)自身很難投入精力進(jìn)行超純水管道的清洗和維護工作。目前各企業(yè)普遍采用“技術(shù)外包”的方式對超純水管道進(jìn)行清洗和保養處理。
基于上述現狀，陜西博泰達技術(shù)人員經(jīng)過(guò)相關(guān)半導體生產(chǎn)企業(yè)和水質(zhì)處理企業(yè)的現狀的現場(chǎng)實(shí)踐合同行業(yè)的經(jīng)驗，研究出一套專(zhuān)業(yè)針對半導體企業(yè)用超純水管道清洗方案。
一、 成果的主要內容
采用化學(xué)清洗法對半導體企業(yè)用超純水管道進(jìn)行處理，使其達到工業(yè)生產(chǎn)需求。
（1）水力清洗
用大量的水盡可能沖掉系統中的灰塵、泥沙。為了達到好的沖洗效果，需注意沖洗方式和水速的控制；
（2）藥液循環(huán)清洗
選擇合適的化學(xué)藥液清洗純水管道，其目的是殺死管道內附著(zhù)的微生物及生物粘泥；
（3）水力循環(huán)沖洗
用反滲透處理水反復沖洗超純水管道，其目的是沖洗掉管內殘留的化學(xué)藥液；
（4）采樣檢查
水力循環(huán)沖洗后采集水樣，用化學(xué)分析方法檢測水中是否含有殘留藥液及水質(zhì)是否達標；
（5）復位檢查
采樣檢查符合水質(zhì)要求后，即可將系統復位至正常狀態(tài)，以備交付使用。
“半導體企業(yè)用超純水管道清洗方案”項目不斷的論證、試驗、實(shí)施和改進(jìn)，取得了一定的成效。該項目的實(shí)施有利于降低企業(yè)對生產(chǎn)成本的投入和產(chǎn)品的出廠(chǎng)價(jià)格，在一定程度上提高了產(chǎn)品的競爭力。
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